开源证券-拓荆科技-688072-公司首次覆盖报告:国产薄膜沉积设备龙头,成长动力充足-220622

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日期:2022-06-23 14:08:51 研报出处:开源证券
股票名称:拓荆科技 股票代码:688072
研报栏目:公司调研 刘翔  (PDF) 36 页 1,148 KB 分享者:hell******niu 推荐评级:买入(首次)
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研究报告内容
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  国产薄膜沉积设备龙头,首次覆盖给予“买入”评级

  公司是国内半导体薄膜沉积设备厂商,同时是国内目前唯一产业化应用PECVD和SACVD的国产厂商。https://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】受益于全球半导体行业的高景气度、国内新增晶圆产能建设的推进,以及半导体制造工艺进步带来的沉积设备需求增长,同时国产替代需求强烈,公司募投扩产,成长动力充足。https://www.hibor.com.cn(慧博投研资讯)我们预计2022-2024年公司可分别实现EPS 1.04/1.60/2.98元,归母净利润1.31/2.03/3.77亿元,当前股价对应PS15.21/9.86/7.74倍,首次覆盖给予“买入”评级。

  薄膜沉积设备市场空间大,需求强劲,成长动力足

  半导体行业景气带动设备稳定增长,薄膜沉积是关键设备,市场规模占半导体设备的20%。根据Maximize Market Research数据统计,2021年全球薄膜沉积设备市场规模为190亿美元,同比+10.5%,预计2025年有望达到340亿美元,2021-2025年CAGR达15.7%。行业基本由应用材料(AMAT)、先晶半导体(ASMI)、泛林半导体(Lam)、东京电子(TEL)等国际巨头垄断,国产替代空间较大。未来随着晶圆厂扩产带动设备需求、芯片制程升级,薄膜沉积设备需求量增加、国产替代,国内薄膜沉积设备厂商将迎来黄金发展机遇。

  公司技术实力强大,具备稀缺性,客户资源优质,成长动力充足

  公司重视研发,高研发投入,掌握核心技术,公司产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。在PECVD、ALD及SACVD设备领域,公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备,满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉积工艺需求,目前公司也在持续进行先进技术的研发工作。客户资源优质,已经成功导入中芯国际、长江存储、华虹集团等国内知名客户。目前公司合同负债维持高位,部分发出商品持续认证中,且募投扩产,未来产能和技术实力将进一步提高,成长动力充足。

  风险提示:募投项目扩产不及预期、行业竞争加剧风险,行业景气度下滑风险、技术研发不及预期风险。

  

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